Intel Produksi Prosesor Ramah Lingkungan

Intel Corporation mulai memproduksi prosesor dengan transistor High-K Metal Gate berbasis Intel 45nm Hafnium. Ini setelah Intel secara resmi membuka Fab 32 pabrik mikroprosesor dengan investasi US$ 3 milyar, Kamis (01/11) kemarin.

Prosesor teknologi Intel 45nm akan mengurangi konsumsi energi yang tidak terkontrol. Dijadualkan, prosesor diluncurkan ke pasar pada 12 November mendatang.

PAUL OTELLINI Intel President dan CEO, salam siaran pers yang diterima suarasurabaya.net, Jumat (02/11), mengatakan pembukaan Fab 32 di Arizona, menandai investasi berkelanjutan Intel untuk aset paling strategis, jaringan manufaktur tercanggih dan paling ramah lingkungan.

Fab 32, kata PAUL, merupakan pabrik wafer 300mm keenam dan pabrik kedua yang memproduksi chip 45nm. “Intel memproduksi prosesor 45nm kali pertama di fasilitas pengembangan Oregon bernama DID, Januari 2007. Dan kini Intel menuju ke produksi bervolume tinggi di Fab 32 ini,”ujarnya.

Intel juga akan menambah dua pabrik yang juga menggunakan wafer 300mm untuk memproduksi teknologi 45nm. Dijadualkan pabrik dibuka tahun depan di Kiryat Gat Israel (Fab 28) dan Rio Rancho (Fab 11x).

Penggunaan wafer 300mm akan mengurangi biaya produksi dan menghapuskan keseluruhan penggunaan sumber daya. Fab 32, kata PAUL, akan jadi satu diantara pabrik Intel paling ramah lingkungan, menggabungkan sejumlah pengukuran konservasi air Arizona dan program daur ulang yang mengkonversi 70% dari total air. Prosesor 45nm mengurangi 15% dalam emisi pemanasan global. (tin)